<b>inf</b>euv光刻机的核心技术，主要由三大系统构成。

首先是euv光源系统，这个系统负责制造光刻过程中，需要用到的特殊光线。

从第一代的uv光刻机，到第五代的euv光刻机，光线的波长也从436n，缩短到了135n，目前所有的光刻机，就是通过光线的不同，来区分技术等级的。

这其中主要涉及到的原理，就是光学中光线波长和清晰度的关系。

最简单的道理，就是进入黄色的钨丝灯房间，大部分人都会感觉视线昏暗，

哪怕多加几个灯泡，也始终感觉没有白色的ed灯那么明亮和清晰。

这就是因为黄色光的波长，要远高于白色光，

光线的波长，就像是海浪一样，越大的波浪，拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。

而这个水位的高低落差，换成在光学领域，就成了影响阴影边缘清晰度的重要因素。

因此，想要达到越小制程的芯片工艺，就需要波长越短，越无限接近绝对直线的光。