“其实这些年我们通过仿制岛国的设备，已经可以达到26np;r的平整度了，但无论我们再怎么检查，哪怕每一个零件都已经达标了，但依然没办法继续突破……”

严辉穿一边穿着防护服，一边向康驰介绍着他们的研究进度。

“抛到26np;r用的是什么抛光液？”

“以i2为基础，加入0-70t%的双氧水，最后用h调节ph到85。”

康驰点了点头“先看看再说吧。”

两人穿好防护服后，很快就来到了抛光实验室，然后由严辉主持，向康驰演示了一次抛光实验。

在传统的硅片抛光打磨中，通常会先用机械抛光机，对硅片进行初步打磨，再清洗，最后进行化学机械抛光，也称为精磨。

精磨是一种利用抛光液的化学腐蚀功能，配合机械转盘的机械打磨，两者互相配合来达到硅片的工艺标准。